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高真空单辊旋淬系统

High Vacuum Melt Quenching System

设备用途:

       用于制备非晶纳米晶的金属薄带。

设备特点:

l   由高真空系统、水冷旋转辊轮系统、及感应系及控制和运动系统组成

l   熔融金属快速冷却(>105/s),易于形成非晶或纳米晶结构

l   合金的熔炼以及薄带的甩出都在高真空腔内完成

主要功能参数:

l   真空度:5×10-4Pa

l   最高熔化温度:1600

l   最大熔化量:50g