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美国密西根大学孙海平博士应邀到我校国家重点实验室进行学术访问

2008年6月20日星期五,美国密西根大学(Electron Microbeam Analysis Laboratory, Department of Materials Science and Engineering, University of Michigan, Ann Arbor, MI, USA)孙海平博士应邀到北京科技大学新金属材料国家重点实验室做关于“Application of Focused Ion Beam and Transmission Electron Microscopy to the Study of the Microstructure and Chemistry of Bulk and Nano Materials”的学术报告。

报告中孙海平博士针对聚焦粒子束(FBI)和透射电镜(TEM)分析材料的显微结构特征,尤其是纳米材料的显微结构特征展开讲述,不但涉及到FBI和TEM的众多基础性知识,还重点对TEM结合FBI以及FBI辅助制备TEM样品,从而充分发挥TEM在材料分析方面的独特优势作了较为详细地介绍。并以TEM结合FBI应用于燃料电池界面以及ZnO纳米线的显微结构和成分分析为例,形象生动地展示了这一最新最先进的实验分析方法。TEM与FBI的结合为材料的分析领域开辟了一条崭新的道路。孙海平博士生动的PPT展示和讲述以及严谨认真的态度赢得了同学们的掌声,并在报告后与同学和老师们进行了深入的交流、探讨。

通过本次报告,为我校以及外校的老师和学生,尤其是进行FBI和TEM研究工作的师生提供了一个拓宽视野,增长知识的机会。使相关师生对TEM和FBI以及TEM结合FBI这一先进的实验分析方法有了清晰的认识,为后续研究和参考提供了帮助。

同学们和参加的老师普遍反映收获颇丰,大受裨益,并表示希望有更多类似的活动举办。